C-25型單面光刻機(jī) 精密設(shè)備

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C-25型單面光刻機(jī) 精密設(shè)備

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主要用途

? 主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、聲表面波器件的研制和生產(chǎn)。

? 由于本機(jī)找平機(jī)構(gòu)先進(jìn)，找平力小、使本機(jī)不僅適合硅片、玻璃片、陶瓷片、銅片、不銹鋼片、寶石片的曝光，而且也適合易碎片如砷化鉀、磷化銦等基片的曝光以及非圓形基片和小型基片的曝光。

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主要構(gòu)成

? 主要由高精度對(duì)準(zhǔn)工作臺(tái)、雙目分離視場(chǎng)CCD顯微顯示系統(tǒng)、采用高均勻性的多點(diǎn)光源、 蠅眼、LED、曝光頭，PLC電控系統(tǒng)、氣動(dòng)系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)、直聯(lián)式無(wú)油真空泵、二級(jí)防震工作臺(tái)和附件箱等組成。

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主要性能指標(biāo)

1有三種版夾盤(pán),能真空吸附5" ×5"或4" ×4"或3" ×3"方形掩板。對(duì)版的厚度無(wú)特殊要求（1～4mm皆可）。如果不同于上述尺寸的版，真空無(wú)法吸附，但可采用夾盤(pán)上的螺孔，和特殊的壓片固定版。

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2設(shè)有相對(duì)應(yīng)的真空吸附基片的“承片臺(tái)”三個(gè)，分別適用于φ4，φ3，φ2片。對(duì)于非標(biāo)準(zhǔn)片或碎片，只要堵塞相應(yīng)的小孔，同樣能真空吸附。

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3照明

光源：采用GCQ350Z型超高壓水銀直流汞燈。

照明范圍：≤110mm

不均勻性：ф100mm內(nèi)±3%

可使用的波長(zhǎng)：g線、h線、I線的組合。

成象面照明：光照度2～20毫瓦/厘米2,任意可調(diào)(出廠時(shí),照明度調(diào)在4mw/cm2)。

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4采用進(jìn)口時(shí)間繼電器（該繼電器可從0.1秒～999.9秒預(yù)設(shè)）控制真空快門(mén)，動(dòng)作準(zhǔn)確可靠。

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5該機(jī)為接觸式光刻機(jī)，但可實(shí)現(xiàn)：

a.?硬接觸曝光：用管道真空來(lái)獲得高真空接觸,真空≤-0.05MPα。

b.?軟接觸曝光：接觸壓力可將真空降到-0.02MPα～-0.05MPα之間。

c.?微力接觸曝光：小于軟接觸,真空≥-0.02MPα。

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6分辯率估計(jì)

如果用戶的“版”、“片”精度符合國(guó)家規(guī)定，環(huán)境、溫度、濕度、塵埃得到嚴(yán)格控制，采用正性光刻膠，且勻膠厚度得到嚴(yán)格控制。加之前后工藝先進(jìn)的話，硬接觸曝光的最小分辨度可達(dá)1μm以上。如果作為批量生產(chǎn),建議使用在1.5μm以上。

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7對(duì)準(zhǔn)

對(duì)準(zhǔn)顯微鏡：

? ?1、由兩支變焦顯微鏡，兩支CCD攝像頭，一臺(tái)液晶顯示器和X.Z方向調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)組成。

? ?2、該顯微鏡雙物鏡距離可調(diào)。

? ?3、該顯微鏡既可通過(guò)顯示屏同時(shí)看見(jiàn)兩物鏡的象，也可轉(zhuǎn)換成只看左物鏡或右物鏡的象。

? ?4、總放大倍數(shù)：0.7×42～4.5×42=30X～189X。

對(duì)準(zhǔn)臺(tái)：（采用片動(dòng)，版不動(dòng)方式）

X、Y調(diào)整：硅片X、Y的對(duì)準(zhǔn)采用切斯曼機(jī)構(gòu)或微分頭調(diào)節(jié)。

粗調(diào)≥±3mm

細(xì)調(diào)≤±0.3mm。

Q調(diào)整：轉(zhuǎn)角≤3°（另設(shè)粗調(diào)機(jī)構(gòu)，可進(jìn)行±15°粗調(diào)）

對(duì)準(zhǔn)間隙（分離間隙）0∽50μm任意可調(diào)。

整個(gè)對(duì)準(zhǔn)臺(tái)相對(duì)于顯微鏡可作±15mm掃描運(yùn)動(dòng)。

“接觸、分離”20μm情況下，片相對(duì)于版的“漂移量”，可調(diào)到≤0.5μm。

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8設(shè)備所需能源

主機(jī)電源： 220V±10% ??50HZ

潔凈空氣≥0.4mpα

真空：-0.07～－0.08MPα。

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9尺寸和重量

尺寸：機(jī)體900（長(zhǎng)）×674（寬）×882（高）。

重量：150Kg。

機(jī)體放在專用工作臺(tái)上。

工作臺(tái)630（長(zhǎng)）×654（寬）×645（高）。

高度可調(diào)范圍0～30mm。

重量180Kg（工作臺(tái)后側(cè)裝有電氣部分）。

總重量≤330Kg

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10光刻機(jī)的組成

l?主機(jī)

主機(jī)（含機(jī)體和工作臺(tái)）

對(duì)準(zhǔn)采用CCD雙視場(chǎng)系統(tǒng)

蠅眼光源曝光頭

l?附件

主機(jī)附件

3"□型掩版夾盤(pán)

4"□型掩版夾盤(pán)（出廠時(shí)安裝到機(jī)器上）

5"□型掩版夾盤(pán)。

用于φ2"基片的真空夾持承片臺(tái)。

用于φ3"基片的真空夾持承片臺(tái)（出廠時(shí)安裝到機(jī)器上）。

用于φ4"基片的真空夾持承片臺(tái)。

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